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  • 等離子干蝕刻
    等離子干蝕刻

    等離子干蝕刻是從另一種材料的表面去除材料的過程。該過程是由於于激發(fā)離子與材料的碰撞而發(fā)生的,無需使用任何液體化學藥品或蝕刻劑即可將其除去。

    更新時間:2024-07-10型號:訪問量:976
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